Dünnschicht auf Glas

Bei der Herstellung von Dünnschichtzellen werden photoaktive Halbleiter als dünne Schichten auf ein Trägermaterial (Glas) aufgebracht. Beim sog. CIS-verfahren bestehen die aktiven Halbleitermaterialien aus Kupfer-Indium-Diselenid (CIS). Die CIS-Schicht wird in einer Vakuumkammer erzeugt und auf eine dünne Molybdänschicht aufgedampft. Dies funktioniert als Rückseitenkontakt auf dem Trägermaterial Glas. Aluminium dotiertes Zinkoxid fungiert als transparenter Frontkontakt.